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關(guān)于Ion Source離子源 等離子離子源 LMIS 和 GFIS 是三種常見的離子源類型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它們被廣泛用于高分辨率離子束成像和微加工應(yīng)用。然而，LMIS 和 GFIS 的總電流比等離子離子源低許多數(shù)量級(jí)。如果特征尺寸大于 50 nm，則等離子離子源可以實(shí)現(xiàn)比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。

Gas Mixers氣體混配器用于 SEMI-KLEEN 和 EM-KLEEN 系列遠(yuǎn)程等離子源

TEM cube多用途樣品清潔及儲(chǔ)存腔室可用于在高真空下存儲(chǔ)多達(dá) 8 個(gè) TEM 樣品架（極限真空在 10 -7 Torr 范圍內(nèi)）。真空度足夠高，可以檢查原位 TEM 芯片的泄漏。它還可以配備遠(yuǎn)程 EM-KLEEN 等離子源，以在腔室中進(jìn)行等離子清潔。腔室的大小為 9 英寸立方。它可以擬合相當(dāng)大的 TEM 和 SEM 樣品和組件。房間有一個(gè)玻璃前門用于觀察。

TEM 樣品架真空泵站可在真空條件下存儲(chǔ)多達(dá)六個(gè) TEM 樣品架，以幫助樣品和樣品架放氣，去除水凝結(jié)，并保持樣品和支架清潔。它還可用于試樣夾具座的泄漏檢查。

關(guān)于SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機(jī) SEMI-KLEEN 和 EM-KLEEN 系列遠(yuǎn)程等離子體清洗機(jī)基于勞倫斯伯克利國(guó)家實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的高效電感耦合等離子體（ICP）放電技術(shù)。與傳統(tǒng) ICP 放電技術(shù)相比，我們的 Turbo Discharge™技術(shù)進(jìn)一步提高了等離子體強(qiáng)度多達(dá) 3 倍。