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簡要描述:PECVD沉積可選配一個三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,從而控制薄膜應(yīng)力。
產(chǎn)品型號: Minilock-Orion III PECVD
所屬分類:PECVD沉積
更新時間:2024-06-17
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家


