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Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造 在半導體行業(yè)，OAI 擁有 40 余年產(chǎn)品研發(fā)和制造經(jīng)驗，以專為研發(fā)及半自動生產(chǎn)設計的光刻設備，應對動態(tài)市場日益增長的挑戰(zhàn)。800E 型基于經(jīng)實踐驗證的 OAI 模塊化平臺打造，是一套增強型、高性能、高分辨率光刻系統(tǒng)，在該價格段性能好。對準器搭載 OAI 優(yōu)良光束光學技術，均勻性佳。